荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)機床LabLine 系列赫爾納供應

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)機床LabLine 系列赫爾納供應，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進口工業(yè)品經驗,原裝產品,支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報價，價格優(yōu)，設有8大辦事處提供相關售后服務。

公司簡介：

SparkNano 是一家高科技產品公司，致力于空間原子層沉積工具 (Spatial ALD) 的設計和商業(yè)化，重新定義了工業(yè)規(guī)模的納米制造。

SparkNano 的 Spatial ALD 技術使其客戶能夠沉積薄的功能層，不僅提高性能并降低燃料電池、電池和太陽能電池的制造成本，而且還解決了與有效利用稀缺材料相關的供應鏈挑戰(zhàn)

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)體制LabLine 系列產品介紹：

SparkNano 的 LabLine 系列提供行業(yè)的空間原子層沉積 （S-ALD） 系統(tǒng)，將薄膜質量與快的沉積速度的靈活性相結合。這些的系統(tǒng)旨在支持廣泛的 S-ALD 工藝并適應各種基板類型，使其成為研發(fā)、工藝開發(fā)、產品開發(fā)甚至試產線生產的理想解決方案。

此外，LabLine 系統(tǒng)具有可擴展性，彌合了實驗室研究和全面生產之間的差距，確保順利無縫地過渡到商業(yè)生產。LabLine 系統(tǒng)由幾個關鍵組件組成，每個組件都旨在為各種 S-ALD 應用提供高性能和靈活性。這些組件可以根據特定的工藝要求進行定制或升級，確保系統(tǒng)適應您不斷變化的需求。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)體制LabLine 系列優(yōu)勢特點：

? 高速處理：在不到 10 分鐘的時間內在硅晶片上實現高達 50 nm 的 Al?O?沉積，大大縮短了加工時間。

? 大型基板能力：支持大 420 mm x 300 mm 的基板，可提供定制尺寸，為各種應用提供出色的可擴展性和靈活性。

? 等離子體增強的靈活性：能夠在聚合物等溫度敏感材料上沉積，擴大了可加工的材料范圍。

? 前驅體效率和成本降低：大的前驅體效率，加上回收未反應的前驅體的能力，顯著減少了材料浪費和運營成本。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)體制LabLine 系列主要規(guī)格：

? 基材類型：平面和多孔基板，包括晶圓、玻璃、金屬和聚合物箔

? 沉積溫度：熱 S-ALD 50°C – 250°C/等離子體增強 S-ALD 50°C – 200°C

? 前驅體和共反應物：前驅體：標準設置，多具有四個前驅體連接。共反應物：H?O（標準）、等離子體（可選 O?、H?、O?）（可根據要求提供其他前驅體和共反應物。

? 基板加載：手動，通過兩個前廳（一個小，一個大）

? 免費樣品區(qū)：大 420 毫米 x 300 毫米

? 系統(tǒng)尺寸：4.0 米（寬）x 3.6 米（深）x 2.1 米（高）